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等離子去膠機(jī)通過等離子體技術(shù)實(shí)現(xiàn)材料表面光刻膠或有機(jī)污染物的去除，其核心功能依賴于多個(gè)精密部件的協(xié)同工作。真空腔室是其核心區(qū)域，為等離子體生成與材料處理提供密閉...
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在材料科學(xué)、印刷包裝、電子制造等領(lǐng)域，表面處理技術(shù)是提升材料性能的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。實(shí)驗(yàn)室電暈機(jī)作為一種非接觸式表面改性設(shè)備，通過高頻高壓放電產(chǎn)生的低溫等離子體，能夠改善材料的潤濕性、粘附性和表面能，為后續(xù)加工工藝奠定基礎(chǔ)。其核心機(jī)制基于電暈放電現(xiàn)象。當(dāng)在兩個(gè)電極間施加足夠高的電壓時(shí)，空氣中的氣體分子被電離，形成帶正電的離子和自由電子。這些帶電粒子在強(qiáng)電場中加速，與周圍氣體分子碰撞，進(jìn)一步激發(fā)出更多活性粒子，形成低溫等離子體。這一過程可分為三個(gè)階段：1.電場建立與氣體電離高壓電源通過...
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等離子清洗特點(diǎn)是不分處理對(duì)象的基材類型，均可進(jìn)行處理，對(duì)金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料等都能很好地進(jìn)行超清洗。
圖為PLUTO-T等離子清洗機(jī)對(duì)陶瓷基板上銀氧化層的清洗實(shí)例。
等離子清洗機(jī)可用于晶圓或者電路板表面的光刻膠去除，以及去除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件表面的光阻材料等。
圖為PLUTO-MD等離子去膠機(jī)對(duì)PCB板和硅片的去膠實(shí)例。
改善粘合力-用于光學(xué)元件、生物醫(yī)學(xué)、封裝領(lǐng)域等；
表面改性-用于高分子材料表面修飾、PDMS微流控芯片鍵合、玻璃等，增強(qiáng)表面粘附性、浸潤性、相容性；
圖為PLUTO-M對(duì)線路板、橡膠管和手機(jī)膜的表面改性實(shí)例。
等離子刻蝕是干法刻蝕中常見的一種形式，其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體，電離氣體原子通過電場加速時(shí)，會(huì)釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。
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